一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法
基本信息
| 申请号 | CN202010741764.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111796485A | 公开（公告）日 | 2020-10-20 |
| 申请公布号 | CN111796485A | 申请公布日 | 2020-10-20 |
| 分类号 | G03F7/16(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 徐飞;邬治国;沈健 | 申请（专利权）人 | 常州瑞择微电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京高沃律师事务所 | 代理人 | 代芳 |
| 地址 | 213000江苏省常州市新北区长江中路25号2号楼5楼西 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法，涉及光掩模技术领域，包括依次设置于光掩模边缘的第一喷头和第二喷头，第一喷头和第二喷头沿光掩模边缘线性移动；第一喷头上设置有第一去胶溶剂喷嘴和第一真空吸入口，第一去胶溶剂喷嘴垂直设置于光掩模的侧面上部，第一真空吸入口垂直设置于光掩模的背面边缘；第二去胶溶剂喷嘴垂直设置于光掩模的正面边缘，第二真空吸入口垂直设置于光掩模的侧面；第一去胶溶剂喷嘴和第二去胶溶剂喷嘴均通过进液管连接有供液组件，第一真空吸入口和第二真空吸入口均通过真空管连接有真空系统。本发明同时清洗光掩模侧面残留光刻胶和边缘光刻胶，且在清洗过程中不会影响到其他区域的光刻胶。 |
