一种真空水冷腔体
基本信息
| 申请号 | CN201320172643.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN203222631U | 公开（公告）日 | 2013-10-02 |
| 申请公布号 | CN203222631U | 申请公布日 | 2013-10-02 |
| 分类号 | C30B35/00(2006.01)I;F27D1/12(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 徐永亮;吴智洪;刘自强 | 申请（专利权）人 | 常州恒嘉半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 上海昀丰光电技术有限公司 |
| 地址 | 上海市浦东新区张江高科技产业东区胜利路836号7幢甲 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种真空水冷腔体，应用于高真空晶体生长设备中，包括腔体壁和冷却水通道，所述冷却水通道开设于所述腔体壁内。由于直接在腔体壁中开设了冷却水通道，腔体壁材料直接作为冷却水通道的外壁，这就杜绝了冷却水向外泄露的现象，并且可以有效防止冷却水在流道内的窜水现象，从而使冷却水沿着冷却通道由入口一直沿着预设的冷却水通道流至出口，进而形成对真空水冷腔体有效的冷却，提高冷却水对水冷腔体的冷却效果。 |
