商标进度
1
商标申请
2010-11-08
2
初审公告
3
已注册
终止
商标详情
| 商标 |
华
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| 商标名称 | 华力 | 商标状态 | 等待实质审查 |
| 申请日期 | 2010-11-08 | 申请/注册号 | 8818130 |
| 国际分类 | 42类-网站服务 | 是否共有商标 | 否 |
| 申请人名称（中文） | 上海华力微电子有限公司 | 申请人名称（英文） | - |
| 申请人地址（中文） | 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 | 申请人地址（英文） | - |
| 商标类型 | 商标注册申请---打印驳回通知 | 商标形式 | - |
| 初审公告期号 | - | 初审公告日期 | - |
| 注册公告期号 | 8818130 | 注册公告日期 | - |
| 优先权日期 | - | 代理/办理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） |
| 国际注册日 | - | 后期指定日期 | - |
| 专用权期限 | - | ||
| 商标公告 | - | ||
| 商品/服务 |
技术研究(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路)(4209)
光罩的设计(4209)
技术研究咨询服务(4209)
半导体晶片的设计(4209)
集成电路的设计(4209)
工程(4209)
技术项目研究(4209)
研究与开发(替他人)(4209)
有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的定做设计服务(4209)
有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的研究服务(替他人)(4209)
半导体和集成电路设计(为他人)(4209)
工程绘图(4209)
掩膜片设计(4209)
材料测试咨询服务(4214)
有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的测试服务(4214)
物理研究(4214)
半导体或集成电路等相关材料及产品的测试(4214)
材料测试(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路)(4214)
工业品外观设计(4216)
工业品外观设计(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路)(4216)
工业品外观设计咨询服务(4216)
关于电子晶片、半导体、晶片(硅晶片)或IC加工及其所需零组件、机器及其运作系统等电脑应用软件的设计(4220)
计算机硬件咨询(4220)
计算机程序的数据和数据转换(非有形转换)(4220)
计算机编程(4220)
计算机软件设计(4220)
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| 商标流程 |
2010-11-08
商标注册申请---申请收文
2010-11-30
商标注册申请---打印受理通知
2011-05-03
商标注册申请---补正收文
2011-05-03
商标注册申请---等待补正回文
2011-09-26
商标注册申请---补正收文
2011-09-26
商标注册申请---等待补正回文
2011-12-12
商标注册申请---补正收文
2011-12-12
商标注册申请---等待补正回文
2012-02-20
商标注册申请---补正收文
2012-02-20
商标注册申请---等待补正回文
2012-02-29
商标注册申请---打印驳回通知 |
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