商标进度
商标申请
2010-11-08
初审公告
2012-06-13
已注册
2012-09-14
4
终止
2032-09-13
商标详情
| 商标 |
H
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| 商标名称 | HLMC | 商标状态 | 商标已注册 |
| 申请日期 | 2010-11-08 | 申请/注册号 | 8818131 |
| 国际分类 | 42类-网站服务 | 是否共有商标 | 否 |
| 申请人名称（中文） | 上海华力微电子有限公司 | 申请人名称（英文） | - |
| 申请人地址（中文） | 中国(上海)自由贸易试验区高斯路568号 | 申请人地址（英文） | - |
| 商标类型 | 商标续展---核准通知打印发送 | 商标形式 | - |
| 初审公告期号 | 1315 | 初审公告日期 | 2012-06-13 |
| 注册公告期号 | 8818131 | 注册公告日期 | 2012-09-14 |
| 优先权日期 | - | 代理/办理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） |
| 国际注册日 | - | 后期指定日期 | - |
| 专用权期限 | 2022-09-14-2032-09-13 | ||
| 商标公告 | - | ||
| 商品/服务 |
集成电路的设计(4209)
半导体晶片的设计(4209)
工程绘图(4209)
掩膜片设计(4209)
技术研究咨询服务(4209)
半导体和集成电路设计(为他人)(4209)
技术研究(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路)(4209)
有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的定做设计服务(4209)
技术项目研究(4209)
光罩的设计(4209)
有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的研究服务(替他人)(4209)
工程(4209)
研究与开发(替他人)(4209)
材料测试咨询服务(4214)
有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的测试服务(4214)
半导体或集成电路等相关材料及产品的测试(4214)
材料测试(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路)(4214)
物理研究(4214)
工业品外观设计(4216)
工业品外观设计(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路)(4216)
工业品外观设计咨询服务(4216)
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| 商标流程 |
2010-11-08
商标注册申请---申请收文
2010-11-30
商标注册申请---打印受理通知
2011-05-03
商标注册申请---补正收文
2011-05-03
商标注册申请---等待补正回文
2011-09-26
商标注册申请---补正收文
2011-09-26
商标注册申请---等待补正回文
2011-11-18
商标注册申请---补正收文
2011-11-18
商标注册申请---等待补正回文
2012-02-20
商标注册申请---补正收文
2012-02-20
商标注册申请---等待补正回文
2012-03-14
商标注册申请---打印驳回通知
2012-10-08
商标注册申请---打印注册证
2021-07-13
变更商标申请人/注册人名义/地址---申请收文
2021-08-07
变更商标申请人/注册人名义/地址---核准证明打印发送
2021-09-15
商标续展---申请收文
2021-10-19
商标续展---核准通知打印发送 |
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