一种激光错误注入设备
基本信息
| 申请号 | CN201921908748.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211741504U | 公开（公告）日 | 2020-10-23 |
| 申请公布号 | CN211741504U | 申请公布日 | 2020-10-23 |
| 分类号 | G01R31/311(2006.01)I;G01R31/265(2006.01)I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 高国栋 | 申请（专利权）人 | 深圳市纽创信安科技开发有限公司 |
| 代理机构 | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 深圳市纽创信安科技开发有限公司 |
| 地址 | 518057广东省深圳市南山区粤海街道高新南十道深圳湾科技生态园12栋裙楼8层29-31号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型实施例公开了一种激光错误注入设备，用于对芯片进行激光错误注入，包括：激光源，用于发射激光；变焦耦合镜，用于调节激光在被测芯片上所形成光斑的尺寸；显微镜，其光路被设置为指向被测芯片，包括光路耦合镜、聚焦镜、成像镜、相机或目镜；设备被配置为：激光源发射的激光经变焦耦合镜后射入显微镜光路，在被测芯片上形成光斑，调节变焦耦合镜，以调节激光在被测芯片上所形成光斑的尺寸。通过实施本实用新型实施例，可较快的确定被测芯片上适合进行激光错误注入的准确位置，扫描效率高。 |
