一种晶片腐蚀和清洗治具
基本信息
| 申请号 | CN202120343266.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214612850U | 公开（公告）日 | 2021-11-05 |
| 申请公布号 | CN214612850U | 申请公布日 | 2021-11-05 |
| 分类号 | C30B33/10（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;H01L21/687（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 王铭乾;钟兴才;周旦兴 | 申请（专利权）人 | 深圳市鑫亿晶科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518000广东省深圳市宝安区航城街道黄麻布社区簕竹角鸿业工业园7栋厂房3层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种晶片腐蚀和清洗治具，包括第一前载板、第二前载板、第一后载板以及第二后载板，第一前载板与第二前载板之间设置第一晶片载架，第一后载板与第二后载板之间设置第二晶片载架，第一前载板以及第二前载板通过调节组件与第一后载板以及第二后载板相连接，第一晶片载架以及第二晶片载架上设置多组晶片定位组件；调节组件包括第一调节杆以及第二调节杆，第一调节杆一端滑动连接在第一调节槽内，第二调节杆一端活动连接在第二调节槽内，第一调节杆设置在第一前载板一侧表面，第二调节杆设置在第二前载板一侧表面。本实用新型能够进行间距调节，满足不同规格晶片的使用，同时晶片承载定位性佳，避免了晶片偏移划伤损坏的情况发生。 |
