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一种位相延迟装置及其制备方法、显示设备

基本信息

申请号 2020115738362 申请日 -
公开（公告）号 CN112285977A 公开（公告）日 2021-01-29
申请公布号 CN112285977A 申请公布日 2021-01-29
分类号 G02F1/13363(2006.01)I; 分类 光学;
发明人 赵文卿 申请（专利权）人 北京瑞波科技术有限公司
代理机构 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 代理人 朱文杰
地址 100176北京市大兴区经济技术开发区地盛北路5号4幢5层5032室
法律状态 -

摘要

摘要 本说明书实施例公开了一种位相延迟装置及其制备方法、显示设备，所述位相延迟装置包括：第一偏振层、第一位相延迟层、第二位相延迟层和第二偏振层；所述第一偏振层位于光源的一侧，用于将接收到的光线转换为线性偏振光；所述第一位相延迟层位于所述第一偏振层远离所述光源的一侧，用于将所述线性偏振光转换为椭圆偏振光；所述第二位相延迟层位于所述第一位相延迟层中远离所述第一偏振层的一侧，用于将所述椭圆偏振光转换为线性偏振光；所述第二偏振层位于所述第二位相延迟层中远离第一位相延迟层的一侧，用于吸收所述线性偏振光；所述第一位相延迟层和所述第二位相延迟层的双折射率不随着可见光波长的增加而减少。