一种适用于溅射镀膜机的加热系统
基本信息
| 申请号 | CN202120317645.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215251140U | 公开（公告）日 | 2021-12-21 |
| 申请公布号 | CN215251140U | 申请公布日 | 2021-12-21 |
| 分类号 | C23C14/50（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 卜钦钦;高文晶;赵磊;吴凯 | 申请（专利权）人 | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 上海申蒙商标专利代理有限公司 | 代理人 | 周宇凡 |
| 地址 | 200444上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种适用于溅射镀膜机的加热系统，其特征在于：对所述可旋转基板架上的基板进行一一对应的加热，即每个所述基板均具有相独立的且设置在所述可旋转基板架上的加热源，所述加热源对所述基板进行加热，且所述加热源是通过并联的方式进行加热并同时实现其加热温度的控制。本实用新型的优点是：1）加热效率高，进而可以提高设备的产能，并可进一步提高基板温度控制的准确性，进而可以进一步提高成膜的均匀性；2）有效的降低成本，提高系统的稳定性；3）提高系统的集成性，并降低成本；4）避免了真空放电现象的发生；5）提高系统的安全性能，安全性好；6）结构简单合理，使用方便，应用范围广，适于推广。 |
