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一种薄膜及其制备方法

基本信息

申请号 CN202010841365.2 申请日 -
公开（公告）号 CN114076997A 公开（公告）日 2022-02-22
申请公布号 CN114076997A 申请公布日 2022-02-22
分类号 G02B1/115（2015.01）I 分类 光学;
发明人 庄明宇;鲍亚盟;蓝芝江;魏子乔;雅乐摩·莫拉;李硕;范滨 申请（专利权）人 光驰科技（上海）有限公司
代理机构 上海申蒙商标专利代理有限公司 代理人 周宇凡
地址 200444上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种薄膜及其制备方法，其特征在于：薄膜包括由不同折射率的材料层依次堆叠在所述基板上构成的多层膜，在所述多层膜远离基板一侧设置的渐变结构层；所述渐变结构层中的折射率在沿朝向多层膜表面的方向上是增加的，所述渐变结构层包含铝元素和氧元素。本发明的优点是：薄膜的增透或者减反射的光谱范围大，大角度入射时光谱变形小，光谱角度效应佳；薄膜制备快速，薄膜结构均匀，薄膜品质劣化风险小，制备工艺对基板的损害小，特别适合工业化量产应用等。