一种真空镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN202122398539.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215887205U | 公开（公告）日 | 2022-02-22 |
| 申请公布号 | CN215887205U | 申请公布日 | 2022-02-22 |
| 分类号 | C23C14/24（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张波;唐政;余海春;戴秀海;龙汝磊;任海峰 | 申请（专利权）人 | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 廖微 |
| 地址 | 200436上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267，297号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空镀膜设备，属于真空镀膜技术领域。所述真空镀膜设备包括蒸发腔体和调节板组件，蒸发腔体具有腔室和线形开口，腔室用于容置蒸发源材料，腔室通过线形开口与外部连通；调节板组件能够遮挡线形开口形成线形蒸发口，调节调节板组件能够调节线形蒸发口的横截面积大小。本实用新型的真空镀膜设备，提高了蒸发源材料蒸发均匀性，减少了蒸发源材料用量，降低了镀膜生产成本。 |
