一种溅射靶材及溅射装置
基本信息
| 申请号 | CN202021245556.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213061007U | 公开（公告）日 | 2021-04-27 |
| 申请公布号 | CN213061007U | 申请公布日 | 2021-04-27 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/54 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 高局;赵亚东;钟志明;陈楚杰;杨小龙;方梁洪 | 申请（专利权）人 | 宁波芯健半导体有限公司 |
| 代理机构 | 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人 | 郝传鑫;贾允 |
| 地址 | 315336 浙江省宁波市杭州湾新区庵东工业园区华兴地块中横路18号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种溅射靶材及溅射装置，所述溅射靶材包括溅射板和背板；所述溅射板设置在所述背板上，所述溅射板包括第一部分和第二部分；所述第一部分围绕所述第二部分设置，所述第一部分具有第一厚度，所述第二部分具有第二厚度，所述第二厚度大于所述第一厚度，通过增加溅射板整体或中间部分的厚度，可以保证溅射板中间部分的消耗量，增加溅射板的消耗时间，从而提高溅射板的使用效率和使用寿命，减少了更换频率。 |
