一种阴极磁过滤真空镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN202011267806.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112376026A | 公开（公告）日 | 2021-02-19 |
| 申请公布号 | CN112376026A | 申请公布日 | 2021-02-19 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I; | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张文录;江鸢飞 | 申请（专利权）人 | 深圳市鑫承诺环保产业股份有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市国亨知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 李夏宏 |
| 地址 | 518000广东省深圳市宝安区沙井步涌同富裕工业园A-5地块B7栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是一种阴极磁过滤真空镀膜设备，包括安装机台，安装机台底端设有阴极磁过滤系统，阴极磁过滤系统内设有真空腔体、阴极磁控系统、蒸镀系统、电源系统和真空泵组、加热器以及加热管转架组件，阴极磁过滤系统是由弯管、导流线圈、阴极靶、引弧针以及等离子体档板构成，弯管内部有数百个特殊的ф3‑5mm凹坑结构，弯管内部设有多个内部倒钩结构，等离子档板边缘区域存在多个呈圆周阵列分布的螺丝孔；通过设置凹坑结构，弯管内部的凹坑结构在溅射过程中，其既能有效防止大颗粒物质的反射，又能让沉积在弯管内部的膜层有个内部倒钩结构，一定程度可降低生产过程中膜层掉落的概率。 |
