曝光装置和曝光系统
基本信息
| 申请号 | CN201820183397.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN207895226U | 公开（公告）日 | 2018-09-21 |
| 申请公布号 | CN207895226U | 申请公布日 | 2018-09-21 |
| 分类号 | G03F7/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 陈云飞 | 申请（专利权）人 | 深圳市天慧谷科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 深圳市天慧谷科技股份公司 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市光明新区光明高新技术产业园西区同观路转2号路华力特大厦生产厂房四层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及曝光设备的技术领域，提供了一种曝光装置及曝光系统，曝光装置用于曝光承印物表面涂布的光固化油墨层，包括：机架；转盘，可转动设置在机架上,转盘上设置有用于放置承印物的容置位；以及曝光组件，包括光源、位于容置位与光源之间的菲林板以及用于驱动菲林板移动并使光源发出的光透过菲林板以曝光放置在容置位上承印物的光固化油墨层的驱动器。本实用新型提供的曝光装置，承印物放置在容置位上，当转盘能够转动的时候承印物随着转盘的转动而移动，使得承印物能够非常方便地转移自己的位置,菲林板位于容置位与光源之间，且菲林板通过驱动器的驱动能够移动的，菲林板的移动，能够非常便捷地调整承印物上图案的曝光位置。 |
