等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法

基本信息

申请号 CN201711408298.X 申请日 -
公开(公告)号 CN109961877A 公开(公告)日 2019-07-02
申请公布号 CN109961877A 申请公布日 2019-07-02
分类号 H01B5/14(2006.01)I; H01B13/00(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 王昉; 蒋彦; 吴德操; 彭格; 余政霖; 徐化力; 王永禄; 冉超志; 钟朝伦; 王珩; 刘先康; 吴至一; 王子猷 申请(专利权)人 重庆元石盛石墨烯薄膜产业有限公司
代理机构 重庆博凯知识产权代理有限公司 代理人 重庆元石盛石墨烯薄膜产业有限公司
地址 400030 重庆市沙坪坝区西园北街14号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法,其特征在于,采用氢气、氧气、氮气或者氦气等处理气体,经过交流电磁场处理使其等离子化并喷出到基材表面;以对薄膜基材进行表面改性预处理,清洗表面及降低表面张力,并在表面生成极性基团。还公开了采用了上述预处理方法的一种卷对卷石墨烯透明导电膜连续制备方法。本发明利用了常温等离子喷射原理实现透明薄膜基材的表面预处理,具有实施简单,操作方便,利于控制,预处理效果好效率高,能够提高薄膜基材后续功能层的附着效果等优点。