一种用于半导体生产的晶舟的强氧化剂清洗液及清洗方法
基本信息
| 申请号 | CN202110911702.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113637536A | 公开（公告）日 | 2021-11-12 |
| 申请公布号 | CN113637536A | 申请公布日 | 2021-11-12 |
| 分类号 | C11D7/08（2006.01）I;C11D7/10（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I | 分类 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛; |
| 发明人 | 薛弘宇;顾仁宝;朱文键;李伟东;余箫伟 | 申请（专利权）人 | 江苏凯威特斯半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 无锡苏元专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张洪伟 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市锡山经济技术开发区团结路31号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于半导体生产的晶舟的强氧化剂清洗液，所述强氧化剂清洗液为氢氟酸和强氧化剂的混合溶液，所述的强氧化剂为重铬酸钾、高锰酸钾、高氯酸钾、高铁酸钠中的至少一种；氢氟酸浓度为2‑20wt％，强氧化剂的浓度为1‑10wt％。本发明使用氢氟酸和强氧化剂的混合溶液来处理半导体晶舟的清洗，同时使用氮气鼓泡，可以完全去除污染，保证产品洁净。经过本发明的方法清洗的晶舟，成本低，清洗效率高；可以有效去除晶舟表面彩虹印迹以及顽固的光刻胶等有机污染物和无机颗粒物质。同时可以最大程度的保证晶舟的表面洁净、无腐蚀印迹，确保产品满足使用标准。 |
