一种专用于碗形半导体配件的等离子喷涂辅助装置
基本信息
| 申请号 | CN202121778689.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215404451U | 公开（公告）日 | 2022-01-04 |
| 申请公布号 | CN215404451U | 申请公布日 | 2022-01-04 |
| 分类号 | C23C4/134（2016.01）I;C23C4/11（2016.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 薛弘宇;周建国 | 申请（专利权）人 | 江苏凯威特斯半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 无锡苏元专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张洪伟 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市锡山经济技术开发区团结路31号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于碗形半导体配件加工技术领域，尤其为一种专用于碗形半导体配件的等离子喷涂辅助装置，包括保护罩，所述保护罩内侧壁的上端开设有呈环形状台阶的放置槽，所述放置槽的上端面放置有工件，所述工件的上方设置有顶盖，所述顶盖安装于保护罩的顶部，从而通过将工件放置在放置槽上，便于将工件的位置进行固定，从而可达到对碗形配件工作面进行有效喷涂的效果，通过保护罩可对喷涂中的工件进行防护，避免工件的喷涂时完整无碰撞，且可阻止喷涂的粉末喷洒至外部，解决了碗形配件在等离子喷涂过程中涂层界面难以控制和有效地保护的技术缺陷，通过将掉落的喷涂收集在底座的内部，从而达到将喷涂的三氧化二钇粉末进行回收利用的效果。 |
