一种半导体用石英的氧化钇涂层的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110369899.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113122795A | 公开（公告）日 | 2021-07-16 |
| 申请公布号 | CN113122795A | 申请公布日 | 2021-07-16 |
| 分类号 | C23C4/134（2016.01）I;C23C4/02（2006.01）I;C23C4/11（2016.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 严汪学;薛弘宇;桂传书 | 申请（专利权）人 | 江苏凯威特斯半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 无锡苏元专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张姝 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市锡山经济技术开发区团结路31号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种半导体用石英的氧化钇涂层的制备方法，包括以下步骤：S1、将石英零件非喷涂区域进行遮挡保护后进行喷砂；S2、将喷砂后的石英进行纯水超声波清洗，清洗后放入烘箱烘干；S3、烘干后喷涂氧化钇涂层；S4、喷涂后，将遮挡保护去掉，去掉毛刺，进行纯水超声清洗。本发明在石英表面喷涂氧化钇涂层，形成耐物理腐蚀的保护层，工作时涂层与蚀刻气体生成的氟化钇不易蒸发，不污染腔体环境，使用后的石英部件经药水浸泡，去除涂层和副产物，可重新进行喷砂喷涂工艺，大大增加零件的使用次数，提高了使用率，降低了生产成本。 |
