用于半导体零部件的喷砂设备

基本信息

申请号 CN202022249579.9 申请日 -
公开(公告)号 CN213796009U 公开(公告)日 2021-07-27
申请公布号 CN213796009U 申请公布日 2021-07-27
分类号 B24C3/04(2006.01);B24C9/00(2006.01);B07B1/28(2006.01) 分类 磨削;抛光;
发明人 薛弘宇;陈开清;刘兴明;程阳;周建国 申请(专利权)人 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
代理机构 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 代理人 吴忠义
地址 214000 江苏省无锡市锡山经济技术开发区团结路31号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及喷砂设备技术领域,且公开了用于半导体零部件的喷砂设备,包括固定台,所述固定台外侧开设有第一滑轨,所述固定台外侧设置有支撑座,且所述支撑座与所述固定台活动连接,所述支撑座顶端设置有物料箱,且所述物料箱与所述支撑座固定连接,所述物料箱一端设置有筛选杆,且所述筛选杆与所述物料箱固定连接。该用于半导体零部件的喷砂设备,通过设置伸缩杆和筛选网,物料向外喷出之前,伸缩杆带动筛选网进行上下的小幅度的震动,使得筛选网对物料进行筛选并自然分离出原砂,且不影响喷砂的循环操作,增强了喷出砂的粒径均匀性,大大缓解被处理光电零部件的表面粗糙度不均的问题,因此增加了该喷砂设备的实用性。