靶材溅射装置
基本信息
| 申请号 | CN202021429934.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212955323U | 公开（公告）日 | 2021-04-13 |
| 申请公布号 | CN212955323U | 申请公布日 | 2021-04-13 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 温艳玲;焦晓希;张学智 | 申请（专利权）人 | 河北冠靶科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京化育知识产权代理有限公司 | 代理人 | 尹均利 |
| 地址 | 050000河北省石家庄市兴业街与火炬路交叉口西北角 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了靶材溅射装置，包括底座，所述底座的上端中部固定连接有两个支撑板，两个所述支撑板的右端下部均开有移动口，两个所述支撑板的相对面上部共同固定连接有限位杆，右侧所述支撑板的右端上部穿插活动连接有移动装置，所述底座的上端中部开有滑槽，所述滑槽内滑动连接有放置装置，所述底座的上端左部和上端右部均固定连接有挡板，右侧所述挡板的右端下部穿插固定连接有推动装置。本实用新型所述的靶材溅射装置，通过设置放置装置和推动装置，便于两个靶材交替进行镀膜，缩短了更换靶材的时间，提高了生产效率，通过设置移动装置，提高了对靶材轰击的均匀性，延长了靶材的使用寿命。 |
