一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机及其操作方法
基本信息
申请号 | CN201610834874.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN106191787B | 公开(公告)日 | 2019-04-05 |
申请公布号 | CN106191787B | 申请公布日 | 2019-04-05 |
分类号 | C23C14/26(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 胡伟; 徐平 | 申请(专利权)人 | 深圳市力沣实业有限公司 |
代理机构 | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) | 代理人 | 深圳市力沣实业有限公司;重庆两江新区夏美西科技合伙企业(有限合伙);重庆鑫景特种玻璃有限公司 |
地址 | 518000 广东省深圳市龙华新区大浪华盛路45号宝华诚工业园4栋2楼 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明适用于镀膜机领域,提供了一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机,包括装取片室、镀膜室和蒸发室,所述装取片室与所述蒸发室均与所述镀膜室连通,且所述装取片室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第一阀门,所述蒸发室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第二阀门,所述装取片室与所述镀膜室之间还设有用于带动工件进出所述镀膜室的传动装置,所述蒸发室内具有镀料组件和用于加热所述镀料组件的电阻片,所述镀料组件紧贴在所述电阻片上。该镀膜机包括装取片室、镀膜室和蒸发室,使其镀膜室一直处于真空状态,无需因装取片而破真空导致吸附水汽等杂质,镀膜状态时没有水汽等杂质的干扰,气体气氛相对稳定,从而提高了镀膜品质和稳定性。 |
