一种等离子体刻蚀装置
基本信息
| 申请号 | CN201520079805.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN204407288U | 公开（公告）日 | 2015-06-17 |
| 申请公布号 | CN204407288U | 申请公布日 | 2015-06-17 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 张海霞;殷翔芝;江霞;乔冠娣 | 申请（专利权）人 | 江苏金来顺光电科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 224300 江苏省盐城市射阳县射阳经济开发区人民西路199号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种等离子体刻蚀装置，包括主机柜，所述主机柜内设有反应室，所述反应室上方与一送气管连接，反应室下方与一抽气管连接，所述反应室内设有一静电吸盘，所述反应室上方中央设有射频电源，所述射频电源的四周设有射频电感线圈，所述射频电源与所述射频电感线圈连接，所述射频电源还与所述静电吸盘连接，所述静电吸盘与所述射频电源的距离为20mm-40mm。能更好的控制等离子体的刻蚀速率及刻蚀深度，保证了放电用的电场的对称性分布，使刻蚀速率具有良好的均匀性。 |
