一种低透过率低反射率镀膜片
基本信息
| 申请号 | CN202010013282.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111190244B | 公开（公告）日 | 2021-10-08 |
| 申请公布号 | CN111190244B | 申请公布日 | 2021-10-08 |
| 分类号 | G02B1/10（2015.01）I;G02B1/11（2015.01）I;G02B1/116（2015.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/10（2006.01）I;C23C14/18（2006.01）I;C23C14/00（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 葛文志;王刚;王懿伟;矢岛大和;翁钦盛 | 申请（专利权）人 | 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 杭州华知专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 杨秀芳 |
| 地址 | 310000浙江省杭州市经济技术开发区白杨街道20号大街578号3幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种低透过率低反射率镀膜片制备方法，包括衬底基板，其特征在于，所述衬底基板表面镀有多层膜结构，所述的膜结构包括介电质膜和金属膜；所述衬底基板上不同所述金属膜的厚度随与所述衬底基板距离的增大而减小。本发明利用蒸镀工艺和溅射镀膜工艺，并通过在镀膜过程中调节金属材料蒸镀用量或金属靶材溅射用量来控制每层金属膜层的厚度，从而实现低透过率、低反射率镀膜片的制备，所用原料简单、容易配制，制备过程更加方便；由于制备过程中膜材料用量容易通过设备进行控制，故而制备出的镀膜片的膜厚度更加均匀，衬底基板镀膜过程在真空环境中进行，膜材料在衬底基板表面分布更加均匀；所制成品透过率低、反射率低，遮光效果好。 |
