一种标准单元库的优化方法及系统
基本信息
| 申请号 | CN201610173678.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105868449B | 公开（公告）日 | 2019-03-15 |
| 申请公布号 | CN105868449B | 申请公布日 | 2019-03-15 |
| 分类号 | G06F17/50（2006.01）I | 分类 | 计算；推算；计数; |
| 发明人 | 韦亚一; 赵利俊; 粟雅娟 | 申请（专利权）人 | 北京中科微投资管理有限责任公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王宝筠 |
| 地址 | 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种标准单元库的优化方法，在进行电路级别的光学仿真之前，先进行标准单元的版图布局，进而进行单一标准单元版图的光学仿真，这样，可以对标准单元先进行光学仿真的优化，减少了后续优化和流片的次数，大大提高了设计效率，降低优化难度，进而提高了设计的可靠性，尤其适用于新工艺节点下的标准单元库的设计和优化。 |
