一种气流旋转均匀的气相沉积装置
基本信息
| 申请号 | CN202011528145.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112695301A | 公开（公告）日 | 2021-04-23 |
| 申请公布号 | CN112695301A | 申请公布日 | 2021-04-23 |
| 分类号 | C23C16/455 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 周岳兵;胡祥龙;戴煜;王艳艳 | 申请（专利权）人 | 湖南顶立科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘奕 |
| 地址 | 410118 湖南省长沙市长沙经济技术开发区星沙产业基地蓝田北路以东、凉塘东路以北、双塘路以西湖南顶立科技有限公司内 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种气流旋转均匀的气相沉积装置，包括用于进行气相沉积的反应釜以及与反应釜连通的进气通道和排气通道；反应釜内设有沉积室，沉积室的空腔是与反应釜同轴的圆柱体，沉积室与反应釜的壁之间依次设有发热体和炉胆保温层，沉积室内设有料盘，料盘通过料盘支撑柱连接在沉积室的底部；排气通道设在沉积室的顶部；料盘上均匀设有通气孔；进气通道包括奇数管道，每路管道包括进气口和进气管，进气口设置在反应釜的底部，进气口围绕着反应釜底面圆心呈对称分布，进气管在水平方向上与反应釜水平横截面呈10‑20°，进气管在竖直方向上呈40‑50°。用本发明的气相沉积装置制得的产品外观性状好，成品率高。 |
