一种基于真空蒸镀法的镀硒工艺、设备及其所得容器
基本信息
| 申请号 | CN201610238937.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105970156B | 公开（公告）日 | 2018-12-18 |
| 申请公布号 | CN105970156B | 申请公布日 | 2018-12-18 |
| 分类号 | C23C14/24;C23C14/06 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 金明江;应仁龙 | 申请（专利权）人 | 杭州诺麦科科技有限公司 |
| 代理机构 | 杭州凯知专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 邵志 |
| 地址 | 310053 浙江省杭州市滨江区滨康路399号616 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提出一种基于真空蒸镀法的镀硒工艺，包括如下步骤：将硒靶材和拟镀硒载体放入真空腔体内；真空腔体抽真空至10‑3Pa以上，对硒靶材进行加热，加热保温温度为200‑700℃，保温20‑100 s；停止加热，待真空腔体内温度降至室温后，充入惰性气体使腔体内气压恢复至大气压，将拟镀硒载体取出。采用本发明工艺能够在拟镀硒载体表面形成镀硒层，利用镀硒层与镓基液态合金表面氧化膜层的相斥性，有效避免镓基液态合金表面的氧化膜层（主要为氧化镓）与载体表面发生粘附，从而极大的改善镓基室温液态合金在各领域的使用环境和应用效果；另外镀层与载体的结合效果优异，镀层厚度可控。 |
