一种轴瓦的基底层

基本信息

申请号 CN201010506167.7 申请日 -
公开(公告)号 CN101994762A 公开(公告)日 2011-03-30
申请公布号 CN101994762A 申请公布日 2011-03-30
分类号 F16C33/12(2006.01)I 分类 工程元件或部件;为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施;一般绝热;
发明人 刘会学 申请(专利权)人 湖北宏鑫复合材料有限公司
代理机构 广州市一新专利商标事务所有限公司 代理人 王德祥
地址 435200 湖北省黄石市阳新县城北工业园湖北安达汽车零部件有限公司
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种轴瓦的基底层,其特征在于:所述轴瓦的基底层是由设置在轴瓦钢背层上的CuSn8InNi合金构成,按重量百分含量计算,CuSn8InNi合金各元素的配比是:Sn:7-9%,In:0.6-2%,Ni:0.6-2%,其余为Cu。本发明轴瓦的基底层具有耐腐蚀性高、抗疲劳强度高、耐磨性优良且环保的优点。