一种化学置换含有杂质镍、铜的镀金溶液的连续纯化系统
基本信息
| 申请号 | CN201710590311.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109280908B | 公开（公告）日 | 2021-03-02 |
| 申请公布号 | CN109280908B | 申请公布日 | 2021-03-02 |
| 分类号 | C23C18/42(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 傅新民 | 申请（专利权）人 | 昊鼎环保科技（湖北）有限公司 |
| 代理机构 | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 周伟 |
| 地址 | 433000湖北省仙桃市高新技术产业开发区新材料产业园发展大道东端(西流河镇周滩村) | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明是一种化学置换镀金溶液及杂质镍及杂质铜的连续纯化系统，包含无电镀金镀浴槽、分离单元、杂质移除单元、回流混合单元及镀液储存筒，可在含镍膜层的基板上通过化学的置换反应以生成金膜层而形成含金膜层的基板，其中金膜层是沉积在镍膜层的表面上。利用主要螯合剂以螯合金离子而形成具20～18nm颗粒大小结构的金错合物，并通过分离单元中具孔隙大小为20～18nm的PE逆渗透膜而分离金错合物，同时还利用杂质移除单元的螯合型离子交换树脂而选择性吸收镍杂质及铜杂质。因此，本发明可达到每分钟0.0075～0.0084μm的沉积速率而沉积出厚度高达0.12μm的优良金膜层。 |
