阵列基板及其制备方法、显示面板

基本信息

申请号 CN202111275193.8 申请日 -
公开(公告)号 CN114220819A 公开(公告)日 2022-03-22
申请公布号 CN114220819A 申请公布日 2022-03-22
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 尹贵永;宋一男;李源规;河雨石;金海源;吉珍太;唐波玲;郑浩旋 申请(专利权)人 惠科股份有限公司
代理机构 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 代理人 刘敏
地址 410324湖南省长沙市浏阳经济技术开发区康平路109号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。阵列基板包括依次层叠设置的衬底基板、阵列层和像素定义层,像素定义层定义出多个子像素区域;每个所述子像素区内设置有多个薄膜晶体管,多个薄膜晶体管中的至少部分为一组并层叠设置于阵列层;每组薄膜晶体管包括有源层、绝缘层、栅极、源极和漏极,有源层的数量与源极、漏极的数量相同且一一对应;有源层和栅极依次层叠设于衬底基板上,有源层和栅极之间、有源层和有源层之间均通过绝缘层隔开,源极和漏极分别与对应的有源层连接。上述阵列基板可以实现更高的开口率,更高的亮度。