一种化学气相沉积装置及其喷头组件
基本信息
| 申请号 | CN201010553706.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101974736B | 公开（公告）日 | 2013-07-31 |
| 申请公布号 | CN101974736B | 申请公布日 | 2013-07-31 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李一成 | 申请（专利权）人 | 理想耀锐（浙江）能源科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 骆苏华 |
| 地址 | 浙江省杭州市余杭区文一西路1500号1幢411室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种化学气相沉积装置的喷头组件，所述化学气相沉积装置用于沉积氧化锌薄膜，所述喷头组件包括：第一表面；与所述第一表面对应的第二表面；穿过所述第一表面的进气通道；与所述进气通道另一端相连的气体扩散区；与气体扩散区另一端相连的气体混合区；与所述气体混合区相连的出气通道，且所述出气通道穿过所述喷头组件第二表面，还包括：温度控制装置，所述温度控制装置用于将所述出气通道内的气体的温度控制在40-80℃。相应地，本发明还提供采用本发明所提供的化学气相沉积装置的喷头组件的化学气相沉积装置，利用本发明所提供的化学气相沉积装置及其喷头组件可以避免反应气体在喷头组件内部发生反应或者凝聚，提高工艺效率和产品的质量。 |
