化学气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN201120553436.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN202499905U | 公开（公告）日 | 2012-10-24 |
| 申请公布号 | CN202499905U | 申请公布日 | 2012-10-24 |
| 分类号 | C23C16/455 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李一成;汪宇澄 | 申请（专利权）人 | 理想耀锐（浙江）能源科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海信好专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址 | 311100 浙江省杭州市余杭区文一西路1500号1幢411室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种化学气相沉积设备，包含化学气相沉积反应腔以及气体传输装置；所述气体传输装置包含反应气源；在所述反应气源与所述化学气相沉积反应腔之间设置定量供气装置，该定量供气装置每次向化学气相沉积反应腔中输送定量的反应气体。本实用新型可精确控制进入各个反应腔内的反应气体量，提高薄膜太阳能电池的沉积质量，并且有效降低化学气相沉积设备的成本。 |
