氧化锌薄膜沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN201120400506.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN202359197U | 公开（公告）日 | 2012-08-01 |
| 申请公布号 | CN202359197U | 申请公布日 | 2012-08-01 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李一成;赵函一;许国青 | 申请（专利权）人 | 理想耀锐（浙江）能源科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海信好专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 理想能源设备（上海）有限公司;理想耀锐（浙江）能源科技有限公司 |
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区居里路1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种氧化锌薄膜沉积设备，其沉积腔的顶板与喷淋头之间形成有气体混合区，并引入有反应气体；经由所述喷淋头上开设的若干气体分配孔，将反应气体引入至喷淋头与基板支承座之间形成的反应区中；通过改变喷淋头中气体分配孔的形状或尺寸或其在喷淋头上的布置结构，或者其中至少两个的结合，使得气体混合区内的气压能够提高，因此在保持反应区中的气压不变时，增大了气体混合区与反应区之间的压力差，从而使反应气体能以较高的速度喷出，并以适当的速度到达基片表面进行ZnO薄膜的沉积处理，有效提高了反应气体的利用率和ZnO薄膜的沉积速率。 |
