基于光源互强度函数分解的光学成像快速计算方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

基于光源互强度函数分解的光学成像快速计算方法

基本信息

申请号	CN201710820261.1	申请日	-
公开（公告）号	CN107479335A	公开（公告）日	2017-12-15
申请公布号	CN107479335A	申请公布日	2017-12-15
分类号	G03F7/20(2006.01)I	分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
发明人	贡顶;沈忱;崔绍春;毛智彪	申请（专利权）人	苏州珂晶达电子有限公司
代理机构	北京科亿知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	汤东凤
地址	215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道1355号国际科技园内B501单元
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种基于光源互强度函数分解的光学成像快速计算方法，其包括以下步骤：1)获取成像系统的光源函数及光瞳函数将光源函数投影到频域上的一组正交基函数上；3)求解空间域上光源互强度函数对应基函数的投影系数α_pq,st；4)由投影系数a_pq,st建立对称正定的投影矩阵A＝[α_pq,st]，并进行特征向量分解A＝UU^*；5)对光源互强度函数进行分离变量，并建立空间域上的交叉传递函数的核函数6)计算核函数与掩膜板图形的卷积，获得像平面上的曝光图案本发明利用一组空间域和频域上的傅立叶函数变换对，并根据卷积定义来计算复杂的积分变换，从而快速的获得相应的核函数，使得光强分布计算快速而高效，从而满足实际的光刻工艺设计需求。