一种投影高光谱系统专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种投影高光谱系统

基本信息

申请号	CN201810336380.4	申请日	-
公开（公告）号	CN108519152A	公开（公告）日	2018-09-11
申请公布号	CN108519152A	申请公布日	2018-09-11
分类号	G01J3/02;G01N21/01	分类	测量；测试;
发明人	张立福;张红明;张霞;岑奕;孙雪剑	申请（专利权）人	中科谱光科技（北京）有限公司
代理机构	北京路浩知识产权代理有限公司	代理人	中科谱光科技（北京）有限公司
地址	100101 北京市海淀区中关村大街18号8层03-174
法律状态	-

摘要

本发明实施例提供一种投影高光谱系统，包括光源单元、光调制单元、分光单元和投影物镜单元；所述光源单元用于向所述光调制单元发射宽谱光束；所述光调制单元用于依次选择所述宽谱光束中的宽谱线光束并将所述宽谱线光束传递至所述投影物镜单元；所述投影物镜单元用于接收所述宽谱线光束并照射至样品，收集样品反射光；所述分光单元用于接收所述反射光进行色散处理，并检测色散处理后的二维光信号。基于投影技术和光谱分光技术相结合获取垂直安放的壁画等样品的高光谱信息，既可以提供样品空间形态分布，又能够提供成像视场内精确到像素点的样品光谱信息，可以辅助进行颜料识别、分析、结果的可视化以及后处理，为壁画等组分分析提供新的实验平台。