含有增强元胞设计的功率MOSFET器件
基本信息
申请号 | CN202011060377.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112234095A | 公开(公告)日 | 2021-01-15 |
申请公布号 | CN112234095A | 申请公布日 | 2021-01-15 |
分类号 | H01L29/06(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 任娜 | 申请(专利权)人 | 济南星火技术发展有限公司 |
代理机构 | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 济南星火技术发展有限公司 |
地址 | 250118山东省济南市槐荫区美里湖美里路中段 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本申请公开了含有增强元胞设计的功率MOSFET器件,用以解决如何在不改变器件工艺流程和成本,以及不牺牲较多其他性能的条件下,降低栅极氧化物中的电场强度的技术问题。本申请中的功率MOSFET器件包括:具有第一导电类型的外延层;若干个具有第二导电类型的第一区域,均匀分布于外延层的上表面,且各第一区域分别与外延层形成第一PN结;若干个具有第二导电类型的中央注入结构,均匀分布于JFET区域内;JFET区域由任意两个相邻的第一区域之间的空隙构成;其中,若干个中央注入结构为圆形或者正多边形。本申请通过中央注入结构,实现了电场屏蔽,进而降低了栅极氧化物中的电场强度,提高了器件的可靠性。 |
