直写曝光机
基本信息
| 申请号 | CN202120011233.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213934539U | 公开（公告）日 | 2021-08-10 |
| 申请公布号 | CN213934539U | 申请公布日 | 2021-08-10 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I;G03F9/00（2006.01）I;H05K3/06（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 蔡志国;江俊龙 | 申请（专利权）人 | 苏州微影激光技术有限公司 |
| 代理机构 | 苏州威世朋知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 郭红岩 |
| 地址 | 215011江苏省苏州市高新区火炬路85号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种直写曝光机，直写曝光机包括多个打标装置、承载机台、设于承载机台上方的曝光装置和位置获取装置、以及遮光条，承载机台的上表面包括承载面以及位于承载面外且相邻的两个边缘，相邻两个边缘分别开设有第一凹槽和第二凹槽，遮光条包括嵌装于第一凹槽的第一段和嵌装于第二凹槽的第二段，遮光条开设有与多个打标装置一一对应的多个透光孔，其中部分透光孔设于第一段并沿第一方向间隔排布，其余透光孔设于第二段并沿垂直于第一方向的第二方向间隔排布，多个打标装置设于遮光条的下方，且每个打标装置的出光口至少部分暴露于其所对应的透光孔中，可以降低组装误差、机台热胀冷缩对打标标记的影响。 |
