可防误溅射的物理气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202110568274.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113025976B | 公开（公告）日 | 2021-07-30 |
| 申请公布号 | CN113025976B | 申请公布日 | 2021-07-30 |
| 分类号 | C23C14/34（2006.01）I;C23C14/04（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 方合;张慧;崔世甲;宋维聪 | 申请（专利权）人 | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 卢炳琼 |
| 地址 | 201201上海市浦东新区庆达路315号13幢3F | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种可防误溅射的物理气相沉积设备，包括腔体、溅射装置、基座、伸缩遮挡模块及伸缩驱动机构；基座和伸缩遮挡模块位于腔体内，且伸缩遮挡模块位于溅射装置和基座之间，包括多个不同内径的可动遮蔽环，多个可动遮蔽环自上而下设置，各可动遮蔽环由2个位于同一平面的半圆环形可动遮挡部构成，各可动遮挡部与伸缩驱动机构相连接；当同一可动遮蔽环的2个可动遮挡部相互接触时构成无缝闭合的环形体，环形体的中心显露出晶圆的镀膜区域，以对晶圆进行边缘遮挡。本发明在物理气相沉积设备内设计多个内径不同的可动遮蔽环，各可动遮蔽环可以根据不同的需要闭合，以实现对晶圆边缘不同范围的遮挡，有助于提高镀膜品质和降低设备成本。 |
