半导体基板及半导体板制作方法

基本信息

申请号 CN201610335492.9 申请日 -
公开(公告)号 CN107403778A 公开(公告)日 2017-11-28
申请公布号 CN107403778A 申请公布日 2017-11-28
分类号 H01L23/482;H01L21/48 分类 基本电气元件;
发明人 胡川 申请(专利权)人 深圳修远电子科技有限公司
代理机构 广州番禺容大专利代理事务所(普通合伙) 代理人 刘新年
地址 322000 浙江省金华市义乌市稠江街道高新路10号义乌高层次人才创新园标准厂房一号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及提供一种半导体基板及芯片制作方法,其中半导体基板包括:用于制作电路的半导体层、隔离层、和预留被消减厚度的辅助层;半导体层、隔离层、辅助层依次层叠设置,辅助层的厚度大于半导体层的厚度。采用所述的半导体基板的芯片制作方法,包括:电路制作过程,在所述半导体基板的半导体层上制作电路;降低厚度过程,对辅助层进行磨削或者蚀刻,消减辅助层的厚度,使半导体基板整体的厚度减小而获得电路基板;封装过程,电路基板进行封装获得芯片。在半导体层上制作电路时,辅助层为半导体层提供辅助支撑,半导体层不易变形,可以保证半导体电路的性能;不再需要辅助层做辅助支撑时,消减辅助层的厚度,使电路基板的厚度大幅下降。