氮化镓HEMT芯片整合封装结构与电子装置
基本信息
申请号 | CN202121863305.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN215933565U | 公开(公告)日 | 2022-03-01 |
申请公布号 | CN215933565U | 申请公布日 | 2022-03-01 |
分类号 | H01L23/12(2006.01)I;H01L23/367(2006.01)I;H01L23/31(2006.01)I;H01L23/522(2006.01)I;H01L25/07(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 谢文华;任炜强 | 申请(专利权)人 | 深圳真茂佳半导体有限公司 |
代理机构 | 北京维正专利代理有限公司 | 代理人 | 朱鹏程 |
地址 | 518000广东省深圳市南山区西丽街道沙河西路健兴科技大厦C座310 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 涉及氮化镓HEMT芯片整合封装结构与电子装置,结构依照封装工序依序包括位于封装底面的散热载片、氮化镓HEMT芯片、第一封装胶层、扇出线路层、MOSFET芯片、第二封装胶层及金属岛层。扇出线路层的第一源极内岛形成于偏离氮化镓HEMT芯片的区块中,漏极线路的一端扇出延伸以远离氮化镓HEMT芯片,柵极线路位于第一源极内岛与漏极线路之间;MOSFET芯片设置于第一源极内岛上,使MOSFET芯片的漏极有间隔连接至氮化镓HEMT芯片的源极;金属岛层的第二源极内岛导通互连MOSFET芯片的第二源极垫与柵极线路,使MOSFET芯片的源极短路径连接氮化镓HEMT芯片的柵极,MOSFET芯片位于不同于氮化镓HEMT芯片的封装胶层中,结构具有减少寄生电感与提高MOSFET芯片反应灵敏的效果。 |
