一种SiCMOSFET器件

基本信息

申请号 CN202122375899.3 申请日 -
公开(公告)号 CN215933612U 公开(公告)日 2022-03-01
申请公布号 CN215933612U 申请公布日 2022-03-01
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L29/16(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 任炜强;春山正光;谢文华;杨正友 申请(专利权)人 深圳真茂佳半导体有限公司
代理机构 北京维正专利代理有限公司 代理人 朱鹏程
地址 518000广东省深圳市南山区西丽街道沙河西路健兴科技大厦C座310
法律状态 -

摘要

摘要 本申请涉及碳化硅功率器领域,公开了一种SiC MOSFET器件,SiC MOSFET器件包括衬底、外延底层、基层、源极层、栅极、栅介质层、沟道段、沟道长度减缩段、浮空段、隔离层、源极和漏极。本申请的栅介质层缺陷密度低,击穿电压高,可靠性高。