一种SiCMOSFET器件
基本信息
申请号 | CN202122378964.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN215933613U | 公开(公告)日 | 2022-03-01 |
申请公布号 | CN215933613U | 申请公布日 | 2022-03-01 |
分类号 | H01L29/06(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L29/16(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 任炜强;春山正光;谢文华;杨正友 | 申请(专利权)人 | 深圳真茂佳半导体有限公司 |
代理机构 | 北京维正专利代理有限公司 | 代理人 | 朱鹏程 |
地址 | 518000广东省深圳市南山区西丽街道沙河西路健兴科技大厦C座310 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本申请涉及碳化硅功率器领域,公开了一种SiC MOSFET器件,SiC MOSFET器件包括衬底、外延底层、基层、源极层、栅极、栅介质层、保护层、沟道段、沟道长度减缩段、浮空段、隔离层、源极和漏极。本申请的栅介质层缺陷密度低,击穿电压高,可靠性高。 |
