一种具有多孔包覆层的硅负极材料及其制备方法

基本信息

申请号 CN202011602658.1 申请日 -
公开(公告)号 CN114695847A 公开(公告)日 2022-07-01
申请公布号 CN114695847A 申请公布日 2022-07-01
分类号 H01M4/36(2006.01)I;H01M4/48(2010.01)I;H01M4/62(2006.01)I;H01M10/052(2010.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 胡盼;贺劲鑫;陈青华;姚林林;房冰 申请(专利权)人 兰溪致德新能源材料有限公司
代理机构 北京久诚知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人 -
地址 321100浙江省金华市兰溪经济开发区兰江街道城郊西路17号
法律状态 -

摘要

摘要 本申请提供了一种具有多孔包覆层的硅负极材料,包括硅基材料、导电碳层和快离子导体层,其特征在于,所述导电碳层包覆在所述硅基材料表面,所述快离子导体层包覆在导电碳层表面;所述快离子导体层为多孔结构。多孔快离子导体层的实体位置是锂离子的优良导体并稳定了SEI膜,提高了材料的循环性能;孔隙位置使内层碳层裸露,增加了电子导电性;同时孔隙位置预留了膨胀空间,有利于缓冲硅基内核的膨胀。采用上述负极材料可以制备高能量密度、可快速充放电的锂离子电池。