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一种多晶硅清洗液的评估方法

基本信息

申请号 CN202111058646.1 申请日 -
公开（公告）号 CN113624704A 公开（公告）日 2021-11-09
申请公布号 CN113624704A 申请公布日 2021-11-09
分类号 G01N21/31（2006.01）I 分类 测量；测试;
发明人 张天雨;王敏;王付刚;吴鹏 申请（专利权）人 江苏鑫华半导体科技股份有限公司
代理机构 北京锦信诚泰知识产权代理有限公司 代理人 倪青华
地址 221004江苏省徐州市经济技术开发区杨山路66号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及半导体加工技术领域，尤其涉及一种多晶硅清洗液的评估方法，包括以下步骤：建立循环系统，自对多晶硅清洗液进行存储的槽体一处对部分清洗液进行抽取，且自另一处将抽取的清洗液返送回槽体内；对循环系统内的清洗液进行吸光度分析，获得吸光度值；对吸光度值进行信号转化，获得数字信号；通过数字信号对清洗液进行评估。本发明中利用吸光度分析的方法确定HF/HNO3的水溶液组分变化，可以对清洗液的更换和调配提供可定量的判断指标，从而使得硅料刻蚀的过程获得稳定的控制，保证供下游拉直单晶使用的硅料具有较高的质量，从而提高最终产品的稳定性及可靠性。