一种反应釜高压水剂射流清洗装置
基本信息
申请号 | CN201520511657.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN204912217U | 公开(公告)日 | 2015-12-30 |
申请公布号 | CN204912217U | 申请公布日 | 2015-12-30 |
分类号 | B08B9/093(2006.01)I | 分类 | 清洁; |
发明人 | 祁正大 | 申请(专利权)人 | 湖北新概念科技有限公司 |
代理机构 | 武汉天力专利事务所 | 代理人 | 程祥 |
地址 | 430070 湖北省武汉市武昌南湖中央花园锦鹃谷4-2-302 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开一种反应釜高压水剂射流清洗装置,包括高压射流清洗装置本体和PLC程序控制器所联接的调控管线;高压射流清洗装置本体主要由高压清洗机组、设在反应釜内的三维旋转喷头伸缩机构和与三维旋转喷头伸缩机构连接的三维旋转喷头组成;所述的高压清洗机组包括高压泵组、驱动电机和水基清洗液配制储存槽;三维旋转喷头伸缩机构内设有与三维旋转喷头联通的清洗管;清洗液配制储存槽通过管路一与高压泵组连接,高压泵组通过管路二与三维旋转喷头伸缩机构的清洗管连接。本实用新型结构巧妙,配套完整,操作灵活方便,降低清洗成本,改善工作环境,避免污染环境,而且大幅度地提高了反应釜清洗效率及清洗质量。 |
