激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构
基本信息
| 申请号 | CN202110667771.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113515021A | 公开（公告）日 | 2021-10-19 |
| 申请公布号 | CN113515021A | 申请公布日 | 2021-10-19 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I;G06T17/00（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 陈林森;浦东林;张瑾;朱鸣;朱鹏飞;乔文;朱昊枢;刘晓宁;邵仁锦;杨颖 | 申请（专利权）人 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 |
| 代理机构 | 苏州简理知识产权代理有限公司 | 代理人 | 庞聪雅 |
| 地址 | 215123江苏省苏州市工业园区新昌路68号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构。所述三维微纳形貌结构包括:基体；形成于所述基体上的至少一个三维微纳形貌单元，其中每个三维微纳形貌单元包括至少一个视觉高点，所述每个三维微纳形貌单元包括复数个从视觉高点开始斜坡形貌斜率按预设规律变化的环带。所述三维微纳形貌结构具有非常逼真的立体视觉。 |
