一种浮雕型波导结构及其制作方法
基本信息
| 申请号 | CN202010220340.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113448014A | 公开（公告）日 | 2021-09-28 |
| 申请公布号 | CN113448014A | 申请公布日 | 2021-09-28 |
| 分类号 | G02B6/13（2006.01）I;G02B6/136（2006.01）I;G02B6/132（2006.01）I;G02B6/124（2006.01）I;G02B27/01（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 乔文;罗明辉;李瑞彬;杨博文;李玲;成堂东;朱平;陈林森 | 申请（专利权）人 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 |
| 代理机构 | 苏州简理知识产权代理有限公司 | 代理人 | 杨瑞玲 |
| 地址 | 215123江苏省苏州市工业园区新昌路68号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种浮雕型波导结构及其制作方法，包括：提供基底，该基底作为浮雕型波导结构的波导载体；在所述基底上形成图案形成层，所述图案形成层的折射率小于所述基底的折射率；在所述图案形成层上形成有贯穿所述图案形成层的纳米结构图案；在所述纳米结构图案内填充形成光学结构材质层，其中所述光学结构材质层的折射率高于所述图案形成层，所述光学结构材质层与所述基底层直接接触；去除所述图案形成层。本发明提供的一种浮雕型波导结构及其制作方法确实解决了现有技术中高折射率基底刻蚀难度大的问题，另辟蹊径解决了制造难度，推进显示技术的发展。 |
