一种光刻设备及光刻方法
基本信息
| 申请号 | CN202010269164.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113495432A | 公开（公告）日 | 2021-10-12 |
| 申请公布号 | CN113495432A | 申请公布日 | 2021-10-12 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 吕帅;徐顺达;王冠楠;朱鹏飞;浦东林 | 申请（专利权）人 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 |
| 代理机构 | 上海波拓知识产权代理有限公司 | 代理人 | 周志中 |
| 地址 | 215123江苏省苏州市工业园区新昌路68号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本发明还公开了一种光刻方法，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。 |
