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一种浮雕型波导结构及其制作方法

基本信息

申请号 CN202010220339.8 申请日 -
公开（公告）号 CN113448013A 公开（公告）日 2021-09-28
申请公布号 CN113448013A 申请公布日 2021-09-28
分类号 G02B6/124（2006.01）I;G02B6/136（2006.01）I;G02B6/132（2006.01）I;G02B27/01（2006.01）I 分类 光学;
发明人 乔文;罗明辉;李瑞彬;杨博文;李玲;成堂东;朱平;陈林森 申请（专利权）人 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
代理机构 苏州简理知识产权代理有限公司 代理人 杨瑞玲
地址 215123江苏省苏州市工业园区新昌路68号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种浮雕型波导结构及其制作方法，包括如下步骤：第一步，在高折射率基底的表面依次覆盖一层高折射率材质层和一层低折射率材质层；第二步，在所述低折射率材质层上形成纳米结构图案，将所述纳米结构图案转移至所述高折射率材质层；第三步，清除所述低折射率材质层，获得具有高折射率纳米结构的高折射率基底。本发明所述的浮雕型波导结构的制作方法确实解决了现有技术中高折射率基底刻蚀难度大的问题，另辟蹊径解决了制造难度，推进显示技术的发展。