一种去除冶金硅中硼杂质的方法
基本信息
申请号 | CN201110025809.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN102134076B | 公开(公告)日 | 2012-09-05 |
申请公布号 | CN102134076B | 申请公布日 | 2012-09-05 |
分类号 | C01B33/037(2006.01)I | 分类 | 无机化学; |
发明人 | 张济祥;汪云华;许金泉;李柏榆;王钟钰;李海燕;陈小番;王春琴 | 申请(专利权)人 | 云南乾元光能产业有限公司 |
代理机构 | 昆明慧翔专利事务所 | 代理人 | 周一康;程韵波 |
地址 | 650106 云南省昆明市高新技术开发区科技路988号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及一种去除冶金硅中硼杂质的方法,这是一种造渣法与湿法提纯相结合的除硼工艺。先用HF和HCl的混合酸液进行酸洗,酸洗过程中保持搅拌,然后进行脱水和真空干燥,在中频感应炉中加热,当金属硅完全熔化后加入氧化剂反应,将硅中的硼杂质转化为氧化态,部分在熔炼过程中挥发,再加入造渣剂反应,通过一次造渣结合酸洗工艺即可将冶金硅中的硼杂质降至0.3ppmwt以下。 |
