一种等离子体CVD设备的微波输入机构
基本信息
申请号 | CN202122355898.2 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN215976036U | 公开(公告)日 | 2022-03-08 |
申请公布号 | CN215976036U | 申请公布日 | 2022-03-08 |
分类号 | C23C16/511(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 傅鹤洪 | 申请(专利权)人 | 新优势产业集团有限公司 |
代理机构 | 杭州杭诚专利事务所有限公司 | 代理人 | 尉伟敏 |
地址 | 310051浙江省杭州市滨江区滨康路680号1幢208室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种等离子体CVD设备的微波输入机构,CVD设备的腔体由底板、侧壁及顶盖围合构成内腔,内腔下部设有用于放置基材的内台,内台通过绝缘环支撑在底板上,底板的中部设有通孔,微波输入机构包括输入波导管,输入波导管与波导同轴转换部件连接,波导同轴转换部件的同轴输出端的外导体与底板上的通孔连接,同轴输出端的内导体穿过底板与内台的底面连接。本实用新型的微波输入机构具有微波利用率高、腔体体积小的优点,具有很高的实用价值。 |
