一种等离子体CVD设备的腔体结构
基本信息
| 申请号 | CN202122369186.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215976037U | 公开（公告）日 | 2022-03-08 |
| 申请公布号 | CN215976037U | 申请公布日 | 2022-03-08 |
| 分类号 | C23C16/511（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 来木庆 | 申请（专利权）人 | 新优势产业集团有限公司 |
| 代理机构 | 杭州杭诚专利事务所有限公司 | 代理人 | 尉伟敏 |
| 地址 | 310051浙江省杭州市滨江区滨康路680号1幢208室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种等离子体CVD设备的腔体结构，固定座、侧壁及顶盖围合构成所述等离子体CVD设备的内腔，侧壁内设有腔体水冷腔，顶盖上设有进气口，固定座上设有排气孔，内腔的下部设有内台，所述内台通过绝缘支撑环设置在固定座上，内台内部设有内台水冷腔，内台水冷腔的底部与内台水冷管连接，固定座的中部设有通孔，通孔的下端口设有引导微波进入内腔的波导连接法兰管，所述内台水冷管穿设在波导连接法兰管的中央。本实用新型的腔体结构具有结构简单，效率高、基材取放操作方便的优点，具有很高的实用价值。 |
